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真空滲碳
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低壓真空滲碳是在低壓真空狀態下,通過多次強滲+擴散過程,以達到零件滲層深度要求的工藝過程,其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和,在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值,通過調整滲碳、擴散時間比,達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。
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